Osaka Vacuum 大阪真空 TG1003 渦輪分子泵

Osaka Vacuum 大阪真空 TG1003 渦輪分子泵Osaka Vacuum 大阪真空 TG1003 渦輪分子泵

核心參數

• 軸承形式：油循環(huán)潤滑滾珠軸承，配備儲油腔體，支持潤滑油補給與更換

• 氮氣抽速范圍：140?5500L/s，覆蓋中大抽速到大抽速多種工況

• 極限真空：＜1×10??Pa，CF 法蘭配置可獲得更高真空等級

• 衍生細分版本

1. 標準通用型：適配常規(guī)惰性氣體工藝

2. 化學對策型（帶 3 后綴）：腔體做耐腐蝕處理，適配微量腐蝕工藝氣體

• 冷卻方式：標配水冷散熱，適配長時間高負載連續(xù)運轉

• 通訊接口：串行通訊，支持運行狀態(tài)讀取、故障報警，對接設備控制系統

• 安全標準：CE、NRTL、SEMI?S2

• 主流型號：TG203、TG3210、TG3213、TG5000、TG5003、TG5500、TG5503

產品特點

1. 循環(huán)油潤滑滾珠軸承結構，可定期補充、更換潤滑油，適配產線 24 小時不間斷重載運轉場景。

2. 機身結構堅固，抗振動、抗大氣沖擊性能優(yōu)異，能夠承受腔體意外沖入大氣，降低破真空帶來的泵體損傷風險，工藝容錯能力良好。

3. 同系列設置標準機型與化學對策機型，化學對策機型腔體做特殊防護處理，可應對部分腐蝕性工藝氣體，拓寬工藝適配范圍。

4. 水冷散熱結構，散熱表現穩(wěn)定，大流量工藝氣體工況下溫度控制平穩(wěn)；整機拆裝檢修便捷。

5. 配套外置控制器，可監(jiān)控轉速、油溫、油位、振動等多項運行參數，方便設備集成與產線運維管理。

典型應用場景

半導體、FPD 平板制造蝕刻、薄膜沉積工藝；大負載真空鍍膜設備；加速器、輻射科研裝置；大型熱處理真空系統；工業(yè)理化真空實驗腔體。

選型提示：需要免補脂長效脂潤滑方案，選用 TG?F 系列；想要無油無磨損結構，選用 TGkine 磁懸浮系列；重度腐蝕工藝，需要結合介質條件評估選型。

配套配件

前級真空泵、真空法蘭配件、專用控制器、通訊線纜、專用潤滑油組件